I.概要
圧力、レベル、流量、温度、PHのプロセス制御システムの組み合わせは自己完結型であり、個々のレベル、流量、圧力、温度、PHシステムのすべての機能を備えています。
4〜20mAのアナログ設定値入力により、リンク式または対話式制御ループ間でさまざまな形式のカスケード制御を実行できます。
プロセス設定点は、フロントパネルから、またはそれに応じて選択できます。
ロジック入力へ。
II。特徴
•レベル、流量、圧力、温度、PHセンサーとインジケーターの選択が含まれています
•リニア電動制御弁によって制御される一次および二次流量
•オン/オフと比例制御
オートチューニング機能によるP、PI、フルPID制御
•デュアルループカスケード制御が可能
•プロセス流体として使用される水

III。 カリキュラムの適用範囲
•流量、レベル、温度、圧力、およびPHの精通度と校正
•インターフェイスの精通度とキャリブレーション
コントローラの習熟度と調整
フロートレベルトランスミッタ
•パルスフロートランスミッタ
•オンオフ制御
•レベル、流量のP、PI、PID制御に関する研究
•PIDコントローラーの調整
•高度なプロセス制御
•温度の精通度とキャリブレーション
•インターフェイスの精通度とキャリブレーション
コントローラの習熟度と調整
•パルスフロートランスミッタ
•オンオフ制御
•温度、流量のP、PI、PID制御に関する研究
手動フロー制御
•温度プロセス制御
複雑な制御ループ

IV。以下のアプリケーションを実現することを許可します。
- 産業用規制ループ要素の研究
- 産業用規制機器の使用および構成
- さまざまなプロセス特性曲線のトレースと理解
PLC
- データのリアルタイム表示と分析
- プロセスソフトウェアの悪用
駅はによって装備されています：
- 流れの詳細な研究のための設備の整ったベンチ
- 温度の詳細な研究のための設備の整ったベンチ
- 圧力の詳細な研究のための設備の整ったベンチ
- レベルの詳細な研究のための設備の整ったベンチ
PHの詳細な研究のための設備の整ったベンチ
ベンチはブレーキが付いているローラーに取付けられている堅いフレームに取付けられ、腐食防止であるべきです
- 各ベンチのプロセスソフトウェアを個別またはネットワーク上で使用する（CD / DVD）
付属：
- PCとの必要な接続のセット
- ベンチの設置と活用を保証するために必要な一連の接続
- インクジェットプリンター